半导体清洗设备竞争激烈,华瑛微凭何技术独步市场?

   时间:2024-11-13 11:23 来源:天脉网作者:江紫萱

在半导体行业的精密制造领域,一场关于高效与环保的技术革新正在悄然进行。无锡华瑛微电子技术有限公司(简称华瑛微),一家专注于绿色环保及原创核心技术的半导体湿法工艺设备公司,凭借其独特的技术优势,在激烈的市场竞争中脱颖而出。

在近期的一档科技访谈节目《芯片揭秘》中,华瑛微销售副总裁杨崴详细介绍了公司的五款主打产品,及其在半导体制造工艺中的关键作用。其中,全自动晶圆边缘腐蚀与清洗设备尤为引人注目。这款设备专门用于处理硅片边缘的氧化硅层,解决了传统工艺中需要贴蓝膜、泡酸液、大量清洗及干燥等繁琐步骤的问题。通过华瑛微的独家技术,仅需微量的氢氟酸和氮气,即可精准去除硅片边缘的氧化硅层,单片生产成本不到1元,且工艺断面形貌清晰,锐度优异。

全自动晶圆边缘腐蚀与清洗设备(图源:华瑛微)

杨崴表示,传统工艺中使用的蓝膜不仅成本高,还需从国外进口,且整个过程中产生的废液处理量大,环保及安全隐患严重。而华瑛微的设备则无需蓝膜,降低了成本,提高了工艺性能,获得了客户的广泛认可。

除了边缘腐蚀与清洗设备,华瑛微的第二款产品——全自动晶圆污染提取测量设备,也在半导体质量检测领域发挥着重要作用。该设备能够对硅片上的30余种金属元素进行定量分析,确保半导体工艺过程中金属污染得到有效控制。杨崴强调,华瑛微的提取技术不受硅片表面性质限制,无论是亲水性还是疏水性表面,均可进行金属提取,这一创新大大拓宽了检测设备的适用范围。

全自动晶圆污染提取测量设备(图源:华瑛微)

华瑛微的第三款产品——全自动晶圆清洗和钝化设备,同样展现了其在半导体工艺处理上的独到之处。该设备利用世界首创的动态薄层技术(DTL),在微处理腔内完成晶圆清洗、钝化和干燥过程,无需大量储备酸液,减少了晶圆搬运步骤,降低了化学品消耗和废液处理成本。与传统方法相比,成本降低了99%以上。

华瑛微世界首创动态薄层技术(DTL)

在访谈中,杨崴还分享了自己在中国半导体行业多年的从业经历。他提到,从早期的设备禁运到如今的国产设备广泛应用,中国半导体行业经历了从学习到创新再到突破的艰难历程。华瑛微作为其中的一员,始终坚持原创技术,致力于为半导体行业带来质的改变。

从行业老兵视角,感受国产半导体行业崛起之路

随着半导体技术的不断发展,清洗作为影响半导体器件良率的关键因素之一,其技术路线也在不断革新。除了传统的湿法清洗外,超声波清洗、超临界流体清洗等多种新技术应运而生,提高了清洗效率和效果。华瑛微凭借其独特的DTL技术,在这一领域占据了领先地位,为半导体行业的绿色发展注入了新的活力。

 
反对 0举报 0 收藏 0
 
更多>同类天脉资讯
全站最新
热门内容
媒体信息
新传播周刊
新传播,传播新经济之声!
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  版权隐私  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报